帶有U-SMPS的MFP Nano plus 4000 濾材濾料測試臺 -使用兩個UF-CPC根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)在原始和清潔氣體中實時測定餾分分離效率，并檢測MMPS范圍

•  實時測定10 nm以上顆粒的餾分分離效率
•  通過測量原始?xì)怏w和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的時間減少一半。
•  無需稀釋！
•  結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原始?xì)怏w中的最高測量濃度可達(dá)2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在低濃度潔凈氣體中的最高計數(shù)率對應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。
•  符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3的國際可比較的測量結(jié)果
•  方便地使用不同的測試氣溶膠，例如NaCl / KCl或DEHS（其他可根據(jù)要求提供）

Palas®的MFP過濾器測試臺已經(jīng)在開發(fā)和質(zhì)量控制的實際應(yīng)用中在世界各地經(jīng)過多次驗證。

MFP Nano plus 4000 濾材濾料測試臺專門設(shè)計用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標(biāo)準(zhǔn)精確地測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率。

本設(shè)備是一種現(xiàn)代且功能強大的納米顆粒測量設(shè)備，以U-SMPS形式，進行5 nm到1 µm范圍粒度測量和數(shù)值分析：

使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子計數(shù)器在原始?xì)怏w和清潔氣體中實時測量特定尺寸的分離效率。

MFP Nanoplus 4000餾分分離效率的實時測量具有以下特殊優(yōu)勢：

•   通過測量原始?xì)怏w和清潔氣體中的顆粒濃度，可將確定餾分分離效率的測量時間減半。
•   結(jié)合兩種UF-CPC版本，UF-CPC在原料氣中的最高測量濃度可達(dá)2,000,000顆粒/立方厘米（單計數(shù)模式），而UF-CPC 50在潔凈氣體低濃度下的最高計數(shù)率對應(yīng)于稀釋系數(shù)為1：200。因此，不再需要常規(guī)的氣溶膠稀釋。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以使用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的氣溶膠分布。

測試序列的高度自動化設(shè)置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調(diào)整程序，共同提供高度可靠的測量結(jié)果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質(zhì)和小型微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)?？梢栽诤芏痰臅r間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負(fù)荷，既可靠又具有成本效益。